【パナソニック】「ナノイーX（72兆）」を開発‐カビ抑制時間を従来比1/2に短縮

　パナソニックは9月28日、新ナノイーX発生デバイス「ナノイーX（72兆）」を開発したと発表した。除菌・脱臭成分であるOHラジカル量を、「ナノイー」の4800億個/秒に対して150倍となる72兆個/秒まで高めると共に、カビ抑制成分量を増加させた。その結果、これまで最大のOHラジカル量であった「ナノイーX（48兆）」と比較して、カビ抑制時間を1/2に短縮した。

　同社は、20年以上にわたりナノイーX技術の研究開発を進め、除菌・脱臭成分であるOHラジカル量の向上を追求してきている。加えて、より高いカビ抑制性能の実現に向け、他の有効成分の可能性を探ることも重要な研究テーマとしてきた。今回開発した「ナノイーX（72兆）」は、OHラジカルの生成量に加えてカビ抑制成分量も増加させることで、従来と比べてカビ抑制時間を1/2に短縮している。

　また、従来のナノイーX技術では、カビ細胞膜の損傷がカビ抑制につながると考えられていた。今回、「ナノイーX（72兆）」の抑制メカニズムを解析した結果、カビ細胞膜の損傷率の増大に加え、カビ抑制成分が、カビの生命活動や増殖に関わる蛋白質まで変性させることを新たに確認した。これは、カビの生命機能をより効果的に低下させていることを示唆しており、これらの作用が相乗的に働くことで、従来を上回るカビ抑制効果につながっていると考えられる。

　同社は今後も、ナノイーX技術の進化を通じて、生活空間、移動空間、公共空間など、様々なシーンにおける空気質改善とカビ対策に貢献し、より清潔で快適な空間の実現を目指していく。

　大阪公立大学名誉教授の向本雅郁氏は、「今回開発された技術では、OHラジカル量とカビ抑制成分量の増加により、従来を上回るカビ抑制性能が確認された。さらに、今回解明したメカニズムは細胞構造に依存することから、生物学的に同様の細胞構造を有する様々な有害カビへの効果も期待される」とコメントしている。